Ir direto para menu de acessibilidade.
Portal do Governo Brasileiro

Estarão abertas de 10 a 13 de março, as inscrições para o edital de vagas remanescentes para os cursos superiores do IFMG - Campus Formiga. Os interessados devem acessar o site www.formiga.ifmg.edu.br e preencher o formulário disponível. O resultado será divulgado no dia 15 de março e as convocações para matrícula serão de acordo com as vagas ociosas dos cursos de graduação que surgirem até dia 22 de março. 

Para participar do processo, o candidato tem que ter sido aprovado no Vestibular do IFMG 2017/1º ou ter sido classificado como excedente no resultado da manifestação de interesse presencial pela vaga do SISU/2017; não ter alcançado classificação necessária para se matricular em nenhum dos cursos ofertados durante o período de matrículas dos Editais do Vestibular ou do Sisu para o ano de 2017, e nas chamadas realizadas até a presente data, tendo ficado como excedente no curso para o qual se candidatou, e ter o Ensino Médio concluído até o dia da matrícula.

A análise da inscrição e a classificação dos candidatos serão realizadas pela COPEVES do Campus Formiga. A classificação será pela ordem decrescente de nota da redação obtida nos processos seletivos dos editais citados no preâmbulo acima, sendo que, para fins de equivalência, a nota da redação do SISU será considerada divida por 10, visto que a do vestibular tem nota máxima 100. Serão feitas tantas convocações quantas forem necessárias, no caso de existência de vagas, dentre os candidatos habilitados.

A convocação será feita exclusivamente por e-mail. É responsabilidade do candidato acompanhar o e-mail para verificar a convocação, a qual poderá ocorrer até dia 22 de março.

O candidato, caso efetue a matrícula, renuncia sua classificação anterior no Vestibular/Sisu, não podendo pleitear vaga caso ocorram futuras chamadas de sua lista de espera.

Veja todas as informações no Edital. 

 Edital 02/2017 - Vagas Remanescentes - cursos-superiores 2017/1 (83.38 kB)

Formulário

 



 
Para o topo.